3月30日，科技评论期刊《麻省理工科技评论》2022年“35岁以下科技创新35人”（35 Innovators Under 35）TR35中国榜单于北京在全球青年科技领袖峰会上正式揭晓，我院集成微纳系统系特聘研究员郑雨晴入选，获先锋者称号，该称号旨在授予投身于引发未来创新活动的基础性研究工作，用于挑战技术极限，不断扩宽科学的疆土的科技青年。

图片来源：《麻省理工科技评论》中国

入选理由：她基于“功能性光刻胶”的全光刻无刻蚀工艺，实现可拉伸晶体管器件高成品率和高均一性制造，创造了将弹性晶体管密度提高100 倍以上的新纪录，突破了限制电子皮肤产业化的关键集成技术壁垒，为柔性电子器件工业制造领域提供新的范式。

郑雨晴设计并提出新的有机小分子和高分子共轭骨架及其组装策略，发展了独具特色的有机半导体材料体系，通过调控分子间弱相互作用实现了介观尺度上分子的精确组装，揭示了材料的化学结构与电子学性能之间的本质规律，多次刷新有机半导体电子迁移率世界记录，实现了与无定形硅相比拟的载流子迁移性质。 此外，她还提出了高分子电子材料的普适性直接光刻图案化方法，实现了高密度本征可拉伸电子器件的单片式集成。利用高分子材料独特的后修饰性，通过高效的紫外光激发化学反应在薄膜中原位形成高分子共价键交联网络，发展了一系列电学性能图案化前后保持稳定的“功能性光刻胶”材料体系，同时实现了各类柔性可拉伸功能高分子材料的高精度图形化和固定化，最小线宽低至2µm。 在此基础上实现了本征可拉伸电子器件的单片式集成，大幅精简复杂电路加工工艺，无需刻蚀的逐层沉积、图案化工艺保证了良好的多层器件层间界面，使得晶体管器件迁移率在50% 的形变下拉伸1000 次仍保持不变。 该方法突破了长久以来限制柔性电子器件进入实际工业生产应用的关键技术瓶颈，与先进半导体工业中的核心光刻工艺相兼容，并保留其高通量、高精度等优点，实现了第一个本征可拉伸半加器器件的构筑和本征可拉伸晶体管阵列的晶圆级制造，将本征可拉伸集成电路密度提高了2 个数量级以上，达到了42000个/cm2，且成品率高达98.5%，满足柔性电子器件批量化制备要求。这一创新的“全光刻构建超高密度柔性可拉伸集成电路”的思想和技术路径为柔性电子器件工业制造领域提供了新的范式。

《麻省理工科技评论》背景介绍：

《麻省理工科技评论》“35岁以下科技创新35人”（MIT Technology Review Innovators Under 35，MIT TR35）是全球权威的青年科技创新人才评选之一，自1999年开始，每年在全球范围内寻找35岁以下最有可能改变世界、极具才华和创新精神的青年科技人才、创新者或企业家。评选从影响力、创新力、进取力、未来潜力、沟通力五个维度评估，涵盖但不限于生物技术、能源材料、人工智能、信息技术、智能制造等新兴技术领域，最终选出35 位科技创新精英。

随着中国影响力与日俱增，加之入选名单里中国人的身影不断增加，2017年，《麻省理工科技评论》TR35 评选首次落地中国，专注于挖掘新兴科技创新领域的中国青年力量。据MIT TR 官方消息，随着中国在科技创新领域的迅速崛起，这份榜单将成为MIT TR35 历史上规模最大、评委级别最高的国际榜单。

信息来源：DeepTech深科技